＜用語解説＞

ハーフトーンマスク Attenuated Phase Shift Mask

　半導体マスクの遮光部をわずかに光が透過するようにし、その遮光部からの透過光の位相を開口部の位相と180度ずらすようにしたマスク。ハーフトーン位相シフトマスクとも言う。位相を反転させることによりエッジ強調効果をもたせることができ、透過部の光強度分布の幅を狭くすることができる。通常の位相シフトマスクは開口部で一つおきにシフタを設けて、シフタ部の位相を反転させているが、ハーフトーンマスクは遮光部が位相シフタになっている。シフタ部はわずかに光を透過するため、ウエハ上で若干の光強度を持つが、レジストには影響を与えない程度の大きさである。主にコンタクトホールのマスクに用いられている。

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